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| 2001 년 9 월 5 일 | ||
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| 카지노사이트. Basic Research Institute (Director : Nagagabe Nobuyuki)는 선 너비가 25 nm 인 자유롭게 패턴을 쉽게 만들 수있는 나노 패턴 처리 기술을 개발했습니다. 이 기술은 스캐닝 프로브 현미경 (SPM)을 사용하여 원자의 불균일성을 관찰합니다.1)의 응용 프로그램이며, 작고 운영하기 쉽기 때문에 나노 기술 연구를 가속화하는 새로운 기술입니다. 이 기술은 Hitachi의 연구 개발 소개 사이트 "i-Engineering"(http : //www.i-eng.hitachi.co.jp) 11 월 1 일부터 국내 연구 기관에 기술을 제공하기 시작합니다. 나노 기술은 21 세기의 기본 기술로 주목을 받고 있으며, 이는 나노 미터 (밀리미터의 백만 분의 1 중 1 백만 분의 1)에 대한 재료를 제어함으로써 재료의 기능과 특성을 크게 향상시키고 과학과 기술의 발전을 촉진합니다. 이 연구 단계에서는 나노 미터 순서의 구조와 치수를 자유롭게 형성하는 기술이 점점 증가하고 있습니다. 현재, 반도체 장치의 제조에 사용되는 전자 빔 드로잉 장치는 나노 미터 수준의 패턴 형성 기술로 실질적으로 사용되고 있지만, 최근 몇 년 동안 나노 기술 연구의 기반이 확대되면서 연구원들이 실험실에서 나노 패턴을 편리하게 만들 수있는 수요가 증가하고있다. 이러한 관점에서, 원래 재료의 표면 원자를 관찰하는 수단이었던 스캐닝 프로브 현미경을 사용하여 미세한 패터닝에 대한 연구는 국내 및 국제적으로 적극적으로 수행되고있다. 이것은 예리한 팁 (프로브)을 갖는 프로브와 저항으로 코팅 된 실리콘 기판 사이에 전압이 적용되는 기술이며, 화학 반응은 프로브에서 방출 된 전자 빔에 의해 저항 필름에 국부적으로 수행된다. 그러나,이 방법은 전자 빔 조사의 양을 제어하기 어려운 DOT 패턴과 같은 복잡한 패턴을 처리하기가 어렵 기 때문에 실제 사용의 주요 장벽이었다. 따라서 Hitachi는 임의의 복잡한 패턴 처리를 허용하는 두 가지 전자 빔 조사 기술을 개발했으며이를 적용하는 나노 패턴 형성 기술을 구현했습니다. (1) 일정한 전류 제어 기술 : 균일 한 선 너비를 갖는 라인 패턴을 재현 가능하게 처리하기 위해, 우리는 저항 필름에 대한 전자 빔 조사량을 일정하게 제어하는 일정한 전류 제어 기술을 개발했습니다. 음성 저항을 사용한 실험에서, 최소 15 나노 미터의 패턴 형성이 달성되었다. (2) 일정한 전압 제어 기술 : DOT 패턴 처리에 일정한 전류 제어가 적용되면 전류 조사량의 양을 빠르게 전환하기가 어렵 기 때문에 모양이 왜곡됩니다. 따라서, 우리는 일정한 전류 제어를 사용하여 라인 패턴 처리에 의해 적용된 전압 값을 사용하여 DOT 패턴을 그리는 일정한 전압 제어 기술을 개발했습니다. 이 기술은 드로잉 거리가 짧은 경우 프로브에서 보드로의 전류 조사가 일정한 전압 제어에도 거의 일정하게 유지된다는 사실을 사용합니다. 패턴에 따라이 두 기술을 다르게 사용함으로써 이제 25 나노 미터의 순서로 복잡하고 미세한 패턴을 만들 수 있습니다. 이번에 개발 된 Nanopattern 형성 장치는 작고 운영하기 쉽고 나노 기술 연구를 가속화하는 기본 기술이 될 것으로 예상됩니다. 이 기술은 8 월 27 일부터 30 일까지 4 일 동안 Hitachi Basic Research Institute에서 Quantum Mechanics and New Technologies (ISQM : International)의 기본 사항에 관한 제 7 차 국제 회의에서 개최됩니다. [터미널]
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