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차세대 3D 장치의 원자 수준 등방성 처리를 지원하는 "9060 시리즈"DCR 에칭 장치를 출시했습니다.

Hitachi High-Tech Co., Ltd.

[이미지] 토르카지노 에칭 장치 "9060 시리즈"
DCR 에칭 장치 "9060 시리즈"

 Hitachi High-Tech Co., Ltd. (이하, Hitachi High-Tech)는 이제 DCR*1우리는 에칭 장치 "9060 Series"(이 제품이라고 함)를 공개 할 것입니다. 이 제품은 Hitachi High Tech가 소유 한 플라즈마 에칭 제품입니다.*2기술 및 노하우 활용, 고급 반도체 장치에 채택 된 높은 측면*33D 구조 등의 건식 환경에서 정확하게 제어 된 수평 가공 (등방성 에칭)을 가능하게하는 장치로 개발되었습니다.
  이 제품을 제공함으로써 우리는 점점 소형화되고 복잡 해지는 최첨단 반도체 장치 제조 공정의 진화를 지원할 것이며, 연구 및 개발에서 대량 생산 단계에 이르기까지 고객 문제를 해결하기 위해 함께 노력할 것입니다.

*1
건조 화학적 제거 (DCR) : 건조 환경에서 화학 반응을 사용하여 모든 방향으로 에칭을 촉진하는 방법
*2
플라즈마 에칭 : 진공 용기에 가스를 분리하고 이온 및 화학 반응을 사용하여 미세 패턴을 처리하는 기술
*3
높은 측면 : 넓은 의미에서는 사각형의 종횡비를 나타내며 여기에서는 웨이퍼의 패턴의 깊이 대 폭의 비율 (깊이/너비)을 에칭 할 것입니다. 높은 측면은이 값이 크다는 것을 의미하며 값이 증가하면 가공 및 측정하기가 매우 어려워집니다.

이 제품의 개발 배경

  반도체 장치가 반세기 이상 동안 더욱 소형화되면서, 통합 회로 처리 치수가 몇 나노 미터에 도달했으며, 에칭 프로세싱에는 원자 층 (angstrom) 레벨 처리 제어 가능성이 필요합니다. 또한, 반도체 메모리 장치에서는 고밀도에 3D 북 구조가 필요하다.*4및 3D-DRAM 구조*5등은 장치 구조를 3 차원으로 만들어 개선되었습니다. 따라서, 반도체 메모리 장치의 건조 에칭 프로세스는 기존의 이방성 에칭 (수직 에칭), 원자 층 수준에서 정확하게 제어되는 등방성 에칭 (수평 균일 에칭) 외에 필요하다.

  이 제품은 히타치 첨단 기술이 수년에 걸쳐 수년에 걸쳐 경작 한 저 손실, 고정밀 플라즈마 에칭 기술을 유지하면서 원자 계층 수준에서 등방성 에칭을 달성함으로써 고객 개발 시간을 단축하고 비용을 줄이며 생산성을 향상시키는 데 도움이 될 것입니다.

*4
3D-NAND 구조 : 비 휘발성 플래시 메모리의 유형 및 메모리 셀을 평평하게 배열하여 저장 밀도를 높이는 NAND 플래시 메모리 유형
*5
3D-DRAM 구조 : 휘발성 메모리의 유형. 비트를 수직으로 저장하여 고밀도를 달성

이 제품의 기능

1. 높은 처리량 처리 및 장비 낮은 발자국*6변환 실현

  일반적으로 건조 환경에서 화학 반응의 등방성 에칭이 수행 될 때, 저온 범위의 라디칼이 사용됩니다.*7고온에서의 흡착 및 열 탈착은 교대로 수행되어야하며, 이로 인해 열과 냉각에 오랜 시간이 걸렸습니다. 이 문제에 대한 응답으로,이 제품은 하나의 진공 반응기에 고유 한 웨이퍼 냉각 메커니즘과 적외선 램프를 설치하여 웨이퍼를 저렴한 시간에서 고온 범위에서 고온 범위로 변경할 수있는 기능을 달성했습니다. 이를 통해 고 처리량 등방성 에칭 프로세스와 광범위한 재료를위한 장비의 풋 프린팅이 적습니다.

*6
발자국 : 장비 점유 지역
*7
라디칼 : 짝을 이루지 않은 전자를 가진 원자와 분자. 그것은 매우 반응성이 높은 특성을 가지고 있습니다.

2. 고정밀 등방성 가공 달성

 웨이퍼 냉각 메커니즘 및 적외선 램프를 사용한 가열 및 냉각을 사용한 등방성 가공 외에도, 우리는 Hitachi 첨단 기술의 강점 인 플라즈마 에칭 기술을 사용하여 표면 반응을 신속하고 높은 정확도로 표면 반응을 신속하게 제어하는 ​​등방성 처리를 달성했습니다. 이를 통해 미세한 3D 구조 가공에 필요한 원자 수준에서 패턴 개구부 및 바닥의 모양을 제어 할 수있는 기술을 제공 할 수 있습니다.

   Hitachi High-Tech는이 제품을 포함한 고급 에칭 장비 및 기술을 제공함으로써 반도체 장치의 개발 및 대량 생산에서 고객의 다양한 처리 요구를 충족시킬 것입니다.
  우리는 적시에 제품에 디지털을 추가하는 혁신적인 솔루션을 계속 제공하여 고객과 함께 새로운 가치를 추구하고 제작하여 최첨단 제조에 기여합니다.

Hitachi High Tech 소개

  의료 분석 장치, 바이오 관련 제품, 방사선 요법 시스템, 반도체 제조 장비, 분석 장비, 분석 장비 및 분석 장비를 제조 및 판매하는 것 외에도, 우리는 Mobility, Connection, Energy and Energy의 HIGCHI hipty groun and the hipty groun and the hiptor groun in high tech groun and the high tech groun and the high tech groun in high tech group에서 고 부가가치 솔루션의 프로비저를 통해 광범위한 비즈니스 영역에서 글로벌 비즈니스 운영을 확장하고 있습니다. 2024 년은 6704 억 엔). 우리는 "보고, 측정 및 분석"의 핵심 강점을 바탕으로 다양한 사회 문제를 해결하고 비즈니스를 통해 지속 가능한 사회를 실현하는 데 기여할 것입니다.

연락처 정보

Hitachi High-Tech Nanotechnology 솔루션 비즈니스 본부
프로세스 시스템 판매 본부 프로세스 계획 부서 [담당 : Higashiyama]
1-17-1 Toranomon, Minato-Ku, 도쿄 105-6409 Toranomon Hills Business Tower
전화 : 070-3985-8297

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